플라즈마의 이해
'제 4의 물질상태'라고 알려져 있으며, 우주의 99%를 차지하는 플라즈마는 그 밀도와 온도를 주요 파라미터로 사용하며
이 두 가지 요소에 따라 우리 주변에서도 쉽게 찾아 볼 수 있는 네온사인이나 형광등 같은 플라즈마 상태들로부터 시작
하여 북극의 오로라, 태양의 상태, 핵융합로에서의 플라즈마 상태 등으로 광범위하게 분류되어질 수 있습니다.

플라즈마의 응용
공업적으로 이용이 활발한 저온 글로우 방전 플라즈마는 반도체 공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch)및 증착
(PECVD: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면처리, 신물질의 합성, 환경
정화 등에 이용되고 있습니다. 공정의 미세화, 저온화의 필요성 때문에 플라즈마 공정이 종래의 공정을 대체하고 있으며
경우에 따라서는 플라즈마만이 제공할 수 있는 물질이나 환경을 이용하기 위한 응용분야가 점점 더 확대되고 있습니다.
이에 따라 다양한 플라즈마의 생성 및 제어, 측정 기술, 플라즈마의 물성을 측정하는 플라즈마 진단법의 개발이 이루어
질 것으로 전망됩니다.

플라스포의 플라즈마
고압 및 대용량 전력변환장치의 제어기술과 플라즈마 응용분야의 다양한 적용 경험을 바탕으로 고 신뢰성의 DC, pulsed DC (Uni-Polar, Bi-Polar), high power pulsed power supply등을 개발, 제작, 공급하고 있습니다. 이 전원 장치들은 magnetron sputtering용, bias용, 대기압 plasma용, high power pulsed magnetron sputtering용 등에 적용이 되고 있으며, 금속코팅 분야에서도 대용량 pulse power supply를 적용한 실적을 가지고 있습니다.